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Surface morphology of TiO$$_{x}$$ films prepared by an ion-beam-assisted reactive deposition method

イオニアシスト反応性蒸着法により作製したTiO$$_{x}$$薄膜の表面構造

笹瀬 雅人*; 三宅 潔*; 山木 孝博*; 鷹野 一朗*; 磯部 昭二*

Sasase, Masato*; not registered; Yamaki, Takahiro*; Takano, Ichiro*; not registered

水分解用光触媒として興味がもたれている酸化チタン(TiO$$_{2}$$)薄膜を、低温で成膜が可能なイオンビームアシスト反応性蒸着(IBARD)法で作製し、TiO$$_{x}$$薄膜の表面構造の検討を行った。電流密度(Ar$$^{+}$$イオン)0$$mu$$A/cm$$^{2}$$で作製されたTiO$$_{x}$$薄膜の表面は平滑であるが、電流密度30$$mu$$A/cm$$^{2}$$では0.1~0.2$$mu$$mの大きさの粒子が観測され、Ar$$^{+}$$イオン電流密度の増加とともにその粒径の増大が認められた。また断面SEM写真からIBARD法で作製されたTiO$$_{x}$$薄膜が柱状構造をしているのが確認された。さらに6つの異なる基板を用いてTiO$$_{x}$$薄膜を作製したが、表面構造に違いは認められなかった。それゆえ、イオン照射がTiO$$_{x}$$薄膜の表面構造の変化を引き起こしていたことが明らかとなった。

no abstracts in English

使用言語

 :

English

掲載資料名

 :

Thin Solid Films

巻

 :

281-282

号

 :

ページ数

 :

p.431 - 435

発行年月

 :

1996/00

発表会議名

 :

開催年月

 :

開催都市

 :

開催国

 :

キーワード

 :

Ion Bombardment; Titanium; Crystallization

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

https://doi.org/10.1016/0040-6090(96)08668-3

研究データの公開先DOI

 :

使用施設

 :

広報プレスリリース

 :

論文解説記事
(成果普及情報誌)

 :

受委託・共同研究相手機関

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Access

 :

- Accesses

InCites™

 :

パーセンタイル：39

分野：Materials Science, Multidisciplinary

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