Reduction of freely migrating defect concentrations by cascade remnants in Ni-Si alloys

Ni-Si合金中のカスケード損傷による自由欠陥濃度の減少

Ni-Si合金中の自由欠陥が、Neイオン照射によって導入されたカスケード欠陥と相互作用し、その結果、自由欠陥濃度が著しく減少することを示した。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Journal of Nuclear Materials
巻	:	244
号	:	2
ページ数	:	p.147 - 152
発行年月	:	1997/00
発表会議名	:
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キーワード	:	FMD; Inter-cascade Interaction; Ni-Si Alloys

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1016/S0022-3115(96)00734-9
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：37.09 分野：Materials Science, Multidisciplinary
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登録番号 : A19960500
抄録集掲載番号 : 250574
論文投稿番号 : 14802

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