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Ion bombardment induced mixing of oxygen-exposed solid surfaces during sputtering

酸素暴露固体表面のイオン衝撃誘起混合

西堂 雅博; 山田 礼司

Saido, Masahiro; not registered

酸素雰囲気下で4keV Ar$$^{+}$$イオン衝撃したTiC及び、Mo試料の表面化学組成をオージェ電子分光法により調べた。同時照射により、気相系からの酸素の取り込みは増加し、試料表面層への酸素の取り込み量は、照射量の1/2乗に比例して、2$$times$$10$$^{16}$$Ar$$^{+}$$イオン/cm$$^{2}$$まで、増加すること、また、酸素の取り込まれる深さは、入射イオンによって作られる衝突カスケードに相当した深さにまで及んでいることが明らかになった。さらに、表面層には、いろいろな原子価を有する酸化物が形成されることが明らかになった。得られた結果は、表面第一層における最大平衡酸素濃度が表面に形成される原子価の高い酸化物によって決められることを示唆している。

no abstracts in English

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