星屋 泰二; 島川 聡司; 市橋 芳徳; 西川 雅弘*; 渡辺 健二*
Hoshiya, Taiji; Shimakawa, Satoshi; not registered; not registered; Watanabe, Kenji*
形状記憶合金は遠隔操作を用いた要素迅速交換技術に極めて有用であるが、実用上最も問題となる高速中性子照射挙動については明らかではない。高速中性子炉JMTR及び14MeV中性子源オクタビアンにおいてTiNi形状記憶合金の照射実験を実施した結果、中性子照射による特異な照射挙動、(1)電気抵抗の負の温度依存性(2)5%までの回復弾性歪(3)高破断応力及び(4)損傷回復挙動の存在が明らかになった。この損傷回復はT/T
=0.33(T:融点、T=523k)という極めて低い温度で生ずる。この現象を利用すれば、照射環境温度を制御することにより照射損傷の影響を最小限に抑制することが可能となる。規則構造を有するTiNi形状記憶合金は変位損傷、変位損傷率や照射温度など中性子照射環境因子に対して、速応答性であると同時に高感受性でもあるため、耐照射型機能材料となり得る可能性を有している。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 179-181 |
号 |
: | |
ページ数 |
: | p.1119 - 1122 |
発行年月 |
: | 1991/00 |
発表会議名 |
: | |
開催年月 |
: | 1989/12 |
開催都市 |
: | 京都 |
開催国 |
: | |
キーワード |
: | Ti-Ni; Shape Memory Alloy; Transformation Characteristics; Deformation Behavior; Restoration Phenomena; Coupler; Driving Element; Ms Temperature Displacement Damage |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：84.12 分野：Materials Science, Multidisciplinary |
Altmetrics |
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