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Interaction between RF and edge plasma during ICRF heating in JT-60

JT-60でのICRF加熱における高周波と周辺プラズマとの相互作用

藤井 常幸; 三枝 幹雄; 木村 晴行; 小野 雅之*; 飛田 健次; 根本 正博; 草間 義紀; 関 正美; 森山 伸一; 西谷 健夫; 中村 博雄; 竹内 浩; 安納 勝人; 篠崎 信一 ; 寺門 正之; JT-60チーム

Fujii, Tsuneyuki; Saigusa, Mikio; Kimura, Haruyuki; not registered; Tobita, Kenji; Nemoto, Masahiro; Kusama, Yoshinori; Seki, Masami; Moriyama, Shinichi; Nishitani, Takeo; Nakamura, Hiroo; Takeuchi, Hiroshi; not registered; not registered; Terakado, Masayuki; JT-60 Team

JT-60では、位相制御型2行2列ループアレテナを用いて、第2高調波イオンサイクロトロン周波数帯(ICRF)加熱実験を行っている。このICRF加熱時の高周波(RF)と周波プラズマとの相互作用として、アンテナ-プラズマ結合特性とパラメトリック不安定性について述べる。アンテナ-プラズマ結合抵抗は、これまで、Hモードと呼ばれる閉込めの良い状態のプラズマに対しては、小さくなる結果が得られていたが、JT-60では位相を制御することによって、これを改善できる結果を得た。またその結果の解析を行った。パラメリック不安定性については、2種類のそれを観測し、そのトロイダル磁場強度及びプラズマ電流に対する依存性を調べた。さらに、周辺プラズマがこのパラメトリック不安定性により加熱されていることを示した。

no abstracts in English

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パーセンタイル:89.72

分野:Nuclear Science & Technology

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