高出力電子リニアックを用いて発生させた高強度エネルギー可変単色陽電子ビームを、材料キャラクタリゼーションや基礎研究に用いる予定のポジトロンファクトリーにおいて、当面の低速陽電子ビーム強度の目標は、10
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である。経験値に基づく控え目な評価では、100MeV、100kWクラスのリニアックによって、この強度の達成が可能であると見積もられる。本報告では、リニアックのターゲット系に関し、モンテカルロ法を用いた陽電子モデレータ等の最適化や、遮へい、放射化空気の閉込め・排気などに係る概念設計の現状を述べる。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 56-57 |
号 |
: | |
ページ数 |
: | p.604 - 609 |
発行年月 |
: | 1991/00 |
発表会議名 |
: | 11th Int. Conf. on the Application of Accelerators in Research and Industry |
開催年月 |
: | 1990/11 |
開催都市 |
: | America |
開催国 |
: | |
キーワード |
: | ポジトロンファクトリー; ポジトロン; 低速陽電子; 電子リニアック; ターゲット; コンバータ; モデレータ; モンテカルロ法; 放射化空気; 材料キャラクタリゼーション |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：84.12 分野：Instruments & Instrumentation |
Altmetrics |
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