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Defects in CVD-grown 3C-SiC irradiated with 2MeV protons

2MeV陽子線照射CVD成長3C-SiC中の欠陥

伊藤 久義; 吉川 正人; 梨山 勇*; 三沢 俊司*; 奥村 元*; 吉田 貞史*

Ito, Hisayoshi; Yoshikawa, Masahito; Nashiyama, Isamu*; not registered; Okumura, Hajime*; Yoshida, Sadafumi*

化学気相成長(CVD)法により作製した立方晶シリコンカーバイド(3C-SiC)結晶に2MeVの陽子線を照射し、生成する欠陥を電子スピン共鳴(ESR)法を用いて調べた。その結果、照射p形(Alドープ)3C-SiCにおいて、100K以下の低温で新たなESRシグナルを見い出した。このシグナル(以後T5と記述する)のgテンソル主値として、$$<$$100$$>$$方向を主軸とした3種類の値g$$_{1}$$=2.0020$$pm$$0.0001,g$$_{2}$$=2.0007$$pm$$0.0001,g$$_{3}$$=1.9951$$pm$$0.0001が得られた。これはT5欠陥がD$$_{2}$$対称構造であることを示している。さらに、T5シグナルに対し観測された超微細構造から、T5はCサイトの点欠陥に起因すると考えられる。また、照射試料の等時アニールから、T5欠陥は150$$^{circ}$$C程度の加熱により消失することが解った。

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