Materials analysis by combined use of RBS/NRA/PIXE

RBS/NRA/PIXE過程を複合的に用いた材料の解析

MeV領域のイオンが材料に入射した時に生ずる弾性散乱、内殻電子励起、選択的核反応等の過程を複合的に利用する事により、通常の方法では不可能な多元素系材料の構造解析が可能になる。本発表では、主として日本原子力研究所で行ってきた金属単結晶中の水素同位体と格子欠陥の相互作用、水素同位体の結晶内占有位置に対する溶質原子の影響等に対するチャネリング解析の結果を中心に議論を展開する。

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発表言語	:	English
掲載資料名	:	Proceedings of the International Conference on Evolution in Beam Applications
巻	:
号	:
ページ数	:	p.138 - 142
発行年月	:	1992/00
発表会議名	:	International Conference on Evolution in Beam Applications
開催年月	:	1991/11
開催都市	:	Takasaki
開催国	:	Japan
キーワード	:	Ion; Analysis; Crystal; Channeling; Surface

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登録番号 : B19911318
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 27876

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