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Control of impurity and hydrogen-deuterium dilution by wall conditioning in JT-60U

JT-60Uにおける壁調整を用いた不純物及び水素による重水素希釈低減

嶋田 道也; 逆井 章; 芳野 隆治; 鎌田 裕; 久保 博孝; 杉江 達夫; 辻 俊二; 中村 博雄; 根本 正博; 小出 芳彦; 二宮 博正; 堀池 寛

Shimada, Michiya; Sakasai, Akira; Yoshino, Ryuji; Kamada, Yutaka; Kubo, Hirotaka; Sugie, Tatsuo; Tsuji, Shunji; Nakamura, Hiroo; Nemoto, Masahiro; Koide, Yoshihiko; Ninomiya, Hiromasa; Horiike, Hiroshi

JT-60Uにおいては壁調整/洗浄の方法としてTDC、ヘリウムグロー。低密度放電、ディスラプティブ放電等を用いている。また壁温300$$^{circ}$$Cまでのベーキングが可能である。これまでに以下のことが明らかになった。(1)40時間のD$$_{2}$$TDCによって酸素不純物は半減した。(2)ヘリウムグロー放電導入によって酸素不純物は半減した。(3)ベーキング温度を300$$^{circ}$$Cから150$$^{circ}$$Cに低下させると酸素及び炭素不純物が1/4~1/3に低減した。(4)1時間のヘリウムグローによってダイバータ板の粒子リサイクリングが半減した。(5)水素による重水素希釈率H/H+Dは重水素TDCを1時間行うことにより0.6から0.3に半減し、500ショットの重水素放電の後0.1-0.2に落ちついた。

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分野:Materials Science, Multidisciplinary

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