北條 喜一; 古野 茂実; 塚本 哲生*; 櫛田 浩平; 大津 仁; 出井 数彦*
Hojo, Kiichi; Furuno, Shigemi; not registered; Kushita, Kohei; not registered; not registered
室温でのチッ素イオン照射にともなう窒化アルミニウム(AlN)の生成過程を透過型電顕(TEM)と透過電子エネルギー損失分光法(EELS)により、その場観察及び同一場所でのEELS測定を行った。アルミニウム膜は真空蒸着法(約1000
厚)をもちいて作製した。又、イオン照射は電顕付設のイオン照射装置を用いて行った。照射条件はN
、30kV、イオン束2
10
(N
)/m
・S、室温で行った。その結果、AlN薄膜はWurtzit型HCP構造をしていることがわかった。さらに、Nの内殻スペクトルは約400eV(低照射)から396.4eV(高照射)に変化することを明らかにした。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 6 |
号 |
: | |
ページ数 |
: | p.141 - 147 |
発行年月 |
: | 1995/02 |
発表会議名 |
: | Electron Energy Loss Spectroscopy and Imaging Workshop; EELSI 94 |
開催年月 |
: | 1994/07 |
開催都市 |
: | Switzerland |
開催国 |
: | |
キーワード |
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論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：23.42 分野：Microscopy |
Altmetrics |
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