Submicron microbeam apparatus using a single-ended accelerator with very high voltage stability

非常に高い電圧安定度を持つシングルエンド加速器を使用したサブミクロマイクロビーム装置

Kamiya, Tomihiro; Suda, Tamotsu*; Tanaka, Ryuichi

原研軽イオンマイクロビーム装置が製作され、3MVシングルエンド加速器のビームライン上に設置された。本装置は主にイオンビーム分析のために用いられる。2MeVのヘリウムビームを用いたビームサイズ計測実験において、77pAの電流値で0.40.4m $^{2}$ (半値幅)のビームスポットが得られた。本会議では、軽イオンマイクロビーム装置と加速器システムの概要を述べ、サブミクロン形成のためのビーム光学設計について議論し、ビームサイズ計測について報告する。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B
巻	:	104
号	:
ページ数	:	p.43 - 48
発行年月	:	1995/09
発表会議名	:	4th International Conference on Nuclear Microprobe Technology and Applications
開催年月	:	1994/10
開催都市	:
開催国	:	China
キーワード	:	軽イオンマイクロビーム; 3MVシングルエインド加速器; イオンビーム分析; 2MeVヘリウム; ビームサイズ; ビーム電流; サブミクロン; ビーム光学設計

特許データ	:
PDF	:

論文URL	:	https://doi.org/10.1016/0168-583X(95)00399-1
研究データの公開先DOI	:
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広報プレスリリース	:
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：96.51 分野：Instruments & Instrumentation
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登録番号 : B19941051
抄録集掲載番号 : 47001015
論文投稿番号 : 21652

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