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High energy single ion hit system combined with heavy ion microbeam apparatus

重イオンマイクロビーム装置と組合わされた高エネルギーシングルイオンヒットシステム

神谷 富裕; 須田 保*; 田中 隆一

Kamiya, Tomihiro; Suda, Tamotsu*; Tanaka, Ryuichi

PIXE, RBS及びNRAなどを用いた高分解能元素マッピングのために製作された原研軽イオンマイクロビーム装置では、0.25$$mu$$mのビーム径、100pAの電流のサブミクロンビーム形式のための開発が進められている。最近の2MeVのHeビームを用いた計測で、0.3$$mu$$mのビーム径、11pAのビーム電流のスポットが得られた。計算によれば、10$$^{-5}$$台の電圧安定度を持つ加速器とエネルギー分解を持つ分析マグネットを用いることにより、目標のビーム性能を達成可能である。そのためには、レンズ系における各種寄生収差の削減と、イオン源からのビーム輝度とエネルギー安定性の向上が必要となる。

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