Construction of mini-ECRIS for the JAERI 400kV ion implanter

400kVイオン注入器用小型ECRイオン源の開発

静電加速器の加速エネルギーを増加させることができる小型ECR多価イオン源を開発している。これをTIARA複合ビーム照射施設の400kVイオン注入装置に搭載することにより同施設において入手不可能な0.4MeVから2MeVまでの高強度重イオンビームを得ることができる。本イオン源は永久磁石だけでプラズマ閉じ込め用磁場を形成させ、RF電力もトランジスタ増幅器を用いることによりきわめて小型省電力となった。今回はこのイオン源の設計及びイオン源テストスタンド上でのファーストビーム引き出し実験について報告する。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Review of Scientific Instruments
巻	:	67
号	:	3
ページ数	:	p.1174 - 1176
発行年月	:	1996/03
発表会議名	:	6th International Conference on Ion Sources (ICIS 1995)
開催年月	:	1995/09
開催都市	:	Whistler
開催国	:	Canada
キーワード	:	静電加速器; ECRイオン源; 永久磁石; 多価イオン源; イオン注入

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1063/1.1146723
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：47.82 分野：Instruments & Instrumentation
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登録番号 : B19950795
抄録集掲載番号 : 240530
論文投稿番号 : 14004

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