Cross-field flow of plasma produced by laser resonance photoionization

レーザー共鳴イオン化生成プラズマの磁場を横切る流れ

not registered; not registered; not registered; not registered; Ogura, Koichi; Shibata, Takemasa

磁場中を垂直に流れるナオジム原子ビームにパルス色素レーザー光を照射し、共鳴イオン化によりドリフト速度約700m/sの遅いプラズマ流を生成した。プラズマのイオン密度が高く低磁場ではプラズマが磁場を横切って直進し、プラズマの生成位置から60mm下流に設けた平板コレクタで検出された。高磁場にしてイオン密度が低くしていくと、磁場を横切り直進してくるプラズマ量の減少が見られ、さらに磁場を高くしていくと検出されなかった。プラズマのイオン密度が2.710 $^{7}$ ~2.010 $^{9}$ cm $^{-3}$ 、磁場が0~2460Gの広い範囲で平板コレクタに到達するか否かは比誘電率 $_{r}$ に依存し、 $_{r}$ 70のときプラズマは磁場を横切って直進し、 $_{r}$ 30のとき直進できず下流コレクタで検出できなかった。

no abstracts in English

使用言語	:	English
掲載資料名	:	Proc. of 1996 Int. Conf. on Plasma Physics
巻	:	1
号	:	0
ページ数	:	p.398 - 401
発行年月	:	1997/00
発表会議名	:	1996 Int. Conf. on Plasma Physics; ICPP 96
開催年月	:	1996/09
開催都市	:	名古屋
開催国	:
キーワード	:	磁場; レーザー; 共鳴イオン化; プラズマ; イオン密度; 比誘電率; 流れ

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登録番号 : B19960131
抄録集掲載番号 : 250527
論文投稿番号 : 14783

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