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Improved confinement with plasma profile and shape controls in JT-60U

JT-60Uにおけるプラズマの分布及び形状制御による閉じ込め改善

閨谷 譲; JT-60チーム

Neyatani, Yuzuru; JT-60 Team

JT-60Uにおいて負磁気シア配位と高三角度放電の閉込め改善領域の研究が進展した。負磁気シア放電では、負シア及び内部輸送障壁の形成により15MWのNB入射で蓄積エネルギー8.2MJ、閉込時間0.71秒、等価DT核融合出力~0.4を得た。内部輸送障壁の位置は$$gamma$$/a~0.65と広く、放射冷却ダイバータを形成するような高密度でも維持できた。この負磁気シア配位をLHCDによって7.5秒保つことができ、定常化への見通しを得た。プラズマの三角度を増大することにより、ELMの発生限界の密度、温度を1.3~2倍に増大させることができた。この結果、1MAの完全電流駆動放電でHファクタ~2.5、規格化ベータ($$beta$$$$_{N}$$)~3を約2秒間維持することに成功した。負イオンNBの入射が1996年3月から開始され、加速電圧180kV、D$$^{-}$$ビーム電流3.2A、入射パワー100kWのプラズマ入射に成功した。

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パーセンタイル:46.12

分野:Physics, Fluids & Plasmas

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