Abe, Hiroaki; Yamamoto, Shunya; Naramoto, Hiroshi
室温以下の低温における重イオン照射によってAl
O
の非晶質化が誘起された。液体窒素温度では600keV、900keV Xe、600keV Krイオン照射で非晶質化したが、600keV Ar、300keV Oイオン照射では非晶質化は確認されなかった。さらに900keV Xeイオン照射下での非晶質化線量は90~150Kで約3dpa、160~220Kで約8dpaであった。220K以上では非晶質化線量にイオンフラックス依存性が観察され、低フラックスでは非晶質相と結晶相の混相が形成され、完全には非晶質化せず、また微結晶の形成も確認された。また高フラックスでは非晶質化線量は250K近傍から急増し、それより高温で非晶質・結晶の混相が形成された。非晶質化はイオン照射によるカスケード損傷の蓄積によって生じていると考えられる。一方で160~220Kでは、イオン照射によるカスケード内部での点欠陥の回復が生じ、非晶質化線量の増加が観察されたものと解釈される。また220K以上ではカスケード間の点欠陥の拡散が励起され、非晶質領域の回復に寄与していると考えられる。
no abstracts in English
発表言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
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巻 |
: | 127-128 |
号 |
: | |
ページ数 |
: | p.170 - 175 |
発行年月 |
: | 1997/00 |
発表会議名 |
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開催年月 |
: | 1996/09 |
開催都市 |
: | America |
開催国 |
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キーワード |
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論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：86.84 分野：Instruments & Instrumentation |
Altmetrics |
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