小型ECRイオン源性能向上のための試み

Improvement in beam intensity of MINI-ECR

原研高崎TIARAに設置された静電加速器に搭載可能な小型ECRイオン源(ミニECR)の開発を行っている。ミニECRが400kVイオン注入器に搭載された場合、Arで+2~+4価程度の中多価イオン生成が主となる。そこでテストベンチにおいて多価イオン増強法であるサポートガス及びウォール効果がミニECRの価数分布に与える影響をAr,O,N,Xeについて調べた。また、引出電極孔径をプラズマ室引出孔径より小さくすることにより、中多価イオンの増強が見られたのでこれらを報告する。

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使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	BEAMS 1996: 第7回粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム
巻	:	0
号	:
ページ数	:	p.131 - 134
発行年月	:	1996/00
発表会議名	:	第7回粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム
開催年月	:	1996/11
開催都市	:	東京
開催国	:
キーワード	:	ECRイオン源; 静電加速器

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登録番号 : B19961202
抄録集掲載番号 : 250074
論文投稿番号 : 14444

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