RFプラズマ源における高密度プラズマ生成実験

High density plasma production in a multicusp plasma generator with RF antenna

Suzuki, Yasuo*; Hanada, Masaya; Okumura, Yoshikazu; Tanaka, Masanobu*

イオン源の長パルス化とプラズマ中性化セルへの応用を目指してRFアンテナ挿入型の多極磁場型プラズマ源を試作した。プラズマ源は内径200mm、深さ270mmの円筒形であり、1~3ターンの銅製のアンテナが据え付けられている。プラズマ源に周波数2MHz、20kWの高周波電力を入力することにより、プラズマ源内水素ガス圧0.6Paにおいてイオン飽和電流密度120mA/cm $^{2}$ 、密度6.010 $^{11}$ cm $^{-3}$ のプラズマを得た。また、イオン飽和電流密度はプラズマ源内中心100mmの範囲内で一様であった。さらにアンテナの最適化を行い、アンテナ表面に絶縁被覆を施すことにより高密度なプラズマが生成できることを実証した。

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使用言語	:	Japanese
報告書番号	:	JAERI-M 92-156
ページ数	:	16 Pages
発行年月	:	1992/10
特許データ	:
PDF	:	JAERI-M-92-156.pdf:0.9MB
論文URL	:	https://doi.org/10.11484/jaeri-m-92-156
キーワード	:	イオン源; プラズマ中性子化セル; RFアンテナ; 高周波; 多極磁場型プラズマ源; イオン飽和電流密度
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Access	:	- Accesses
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登録番号 : M19920156
抄録集掲載番号 : 200919

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