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電子ビーム加熱蒸発面の温度分布

Temperature profiles of evaporation surface heated by electron beam

大場 弘則  ; 柴田 猛順

Oba, Hironori; Shibata, Takemasa

電子ビーム加熱で銅を蒸発させた時の蒸発面温度分布測定をCCD(電荷結合素子)カメラを用いて試みた。蒸発面を562$$pm$$5nmの単色フィルターを通してCCDカメラで撮影録画し、画像処理を行って表面からの放射強度分布を測定した。温度分布を放射強度分布からプランクの式を用いて算出した。電子ビーム入力が4.5kWの時、最高温度は2040Kに達し、中心からるつぼ半径方向に向かうにしたがって急激に低下し、るつぼ壁面付近では融点に近くなっていることがわかった。また、温度分布から飽和蒸気圧のデータを用いて蒸発速度分布を算出し、水晶振動子膜厚計位置での蒸着速度を推定したところ実測値とほぼ一致した。

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