表面分析装置を搭載した低エネルギーイオンビーム蒸着装置

Low-energy ion-beam deposition apparatus equipped with surface analysis system

not registered; Aoki, Yasushi; Nagai, Shiro

低エネルギーイオンビーム蒸着装置は、高崎研究所で進められている放射線高度利用研究の一環で平成3年3月に設置したものである。本装置は、超高真空下におけるイオンビーム蒸着の薄膜形成過程や低エネルギーイオンと固体表面の相互作用の解明を目的として作製されたものである。本報告書は、低エネルギーイオンビーム蒸着装置の概要、運転要領及び本装置でこれまで行ってきた炭素薄膜形成に関する実験結果についてまとめたものである。

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使用言語	:	Japanese
報告書番号	:	JAERI-Research 94-018
ページ数	:	45 Pages
発行年月	:	1994/10
特許データ	:
PDF	:	JAERI-Research-94-018.pdf:1.2MB
論文URL	:	https://doi.org/10.11484/jaeri-research-94-018
キーワード	:	イオンビーム蒸着法; その場-リアルタイム測定; AES; SIMS; ISS; RHEED; 炭素薄膜
使用施設	:
広報プレスリリース	:
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受委託・共同研究相手機関	:
他機関報告書番号	:

Access	:	- Accesses
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登録番号 : S19940018
抄録集掲載番号 : 220701

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