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DNA及びそのサイト選択的励起による損傷の分光学的研究

Spectroscopic study of site selective DNA damage induced by intense soft X-rays

藤井 健太郎

Fujii, Kentaro

本研究では高輝度光源からの単色軟X線を用いて、まず、DNA構成塩基の窒素及び酸素のNEXAFSスペクトルの測定を行った。それによると、塩基種の違いによる電子状態の違いによってDNA中で、塩基を選択的に励起する、「塩基選択的励起」の可能性を見いだすことができた。また、NEXAFSスペクトルの入射光偏光角度依存性より、adenine, guanine, uracil薄膜は分子が配向構造をもつことが明らかになった。さらに、軟X線によるDNA損傷のメカニズムについて探るために、光照射によって生じたイオンを検出するための、装置を立ち上げ、いくつかのDNA構成分子について、酸素K殻励起領域での脱離イオン観測を行い、直接励起によって生じるDNA損傷のメカニズムについての有力な知見を得ることができた。

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