Electrical probe measurements of the late stage of the plasma produced by laser irradiation in an argon gas-puff target

アルゴンガスパフ中に生成したレーザープラズマの静電プローブ測定

高強度のパルスレーザー光をガスパフに集光して生成する高エネルギープラズマは光学素子の反射率を低下させるようなデブリのでないEUV光源またはX線源として期待される。プラズマを制御して効率的にEUV光またはX線を発生するにはレーザープラズマの特性の時間発展を知る必要がある。ここでは、Nd:YAGレーザーをアルゴンガスパフに集光して生成した膨張するプラズマの膨張速度と電子温度を静電プローブで測定した。その結果、膨張速度は約1600m/s、電子温度は1eV以下であることがわかった。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Japanese Journal of Applied Physics, Part 1
巻	:	42
号	:	7A
ページ数	:	p.4518 - 4519
発行年月	:	2003/07
発表会議名	:
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開催国	:
キーワード	:	レーザー; プラズマ; 速度; 電子温度

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論文URL	:	https://doi.org/10.1143/JJAP.42.4518
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：5.65 分野：Physics, Applied
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登録番号 : A20030289
抄録集掲載番号 : 44000369
論文投稿番号 : 17046

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