レーザー生成プラズマを用いた次世代リソグラフィEUV光源

Laser produced plasma for EUV light source for lithography

Nishihara, Katsunobu*; Nishimura, Hiroaki*; Mochizuki, Takayasu*; Sasaki, Akira

現在、核融合研究を含むエネルギー科学研究の成果を新しい学術の創生と先端産業技術に還元することが社会から要請されている。本解説では、特にレーザー核融合の基監技術を応用した極端紫外光源開発を中心に、産業技術への新しい展開を議論する。実験及び理論解析による、XeやSnのレーザー生成プラズマから発生する13.5nm帯のEUV光の特性について述べる。特に、原子データ計算コード(HULLAC)や、理論原子データベースによる分光解析によって、主要なスペクトル線の同定を行い、オパシティの性質を明らかにし、13.5nm帯で得られるEUV光出力理論的限界について議論する。さらにこれらのプラズマ物理の理解に基づく、ターゲット材質,構造や照射条件の最適化について検討する。

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使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	レーザー研究
巻	:	32
号	:	5
ページ数	:	p.330 - 336
発行年月	:	2004/05
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キーワード	:	EUV; リソグラフィ; プラズマ分光; 原子過程; シミュレーション

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論文URL	:	https://doi.org/10.2184/lsj.32.330
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登録番号 : A20030326
抄録集掲載番号 : 330226
論文投稿番号 : 21628

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