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Characteristics of extreme ultraviolet radiation conversion efficiency of a xenon plasma

XeプラズマのEUV光変換効率の特性

Masnavi, M.*; 中島 充夫*; 佐々木 明; 堀田 栄喜*; 堀岡 一彦*

Masnavi, M.*; Nakajima, Mitsuo*; Sasaki, Akira; Hotta, Eiki*; Horioka, Kazuhiko*

半導体リソグラフィ用EUV光源としてレーザープラズマと並んで注目されている放電プラズマの放射特性の理論的な解析を行った。本論文では、放電励起プラズマが10$$^{18}$$/cm$$^{3}$$程度の低密度であることによる非平衡原子過程の効果に注目し、電離過程を時間依存,励起過程を定常とみなす準定常(QSS)モデルでポピュレーションを評価し、さらにHULLACによる詳細原子データを用い、 $$Xe^{10+}$$の4d-5p遷移の構造を考慮して13.5nm帯の発光強度の評価を行ったところ、定常状態を仮定した場合よりも効率が向上する可能性があることがわかった。

no abstracts in English

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パーセンタイル:20.72

分野:Physics, Applied

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