Exit interaction effect on nascent product state distribution of O( $^{1}$ D)+N $_{2}$ ONO+NO

O( $^{1}$ D)+N $_{2}$ ONO+NO反応の生成物状態分布における出口相互作用効果

Kawai, Shinnosuke*; Fujimura, Yo*; Kajimoto, Okitsugu*; Takayanagi, Toshiyuki

O( $^{1}$ D)+N $_{2}$ O反応で生成するNO(v=0,1,2)の回転状態の分布を測定した。回転温度はおよそ20000Kであり、分布は位相空間理論で予想されるものに近いことがわかった。この結果は、反応中間体の寿命がそれほど長くはないが、分布はほぼ統計的であることを意味する。しかしながら、回転量子数の大きな場合には、分布は位相空間理論で予想されるよりも早く減衰した。このことを理解するため、分子軌道計算に基づいたポテンシャル曲面を用いて古典軌道計算を行った。その結果、実験で得られた高い回転量子数の分布が反応出口領域のポテンシャルの影響を強く受けることがわかった。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Journal of Chemical Physics
巻	:	120
号	:	14
ページ数	:	p.6430 - 6438
発行年月	:	2004/04
発表会議名	:
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キーワード	:	反応ダイナミクス; ポテンシャル曲面; 回転分布; 古典軌道計算; 分子軌道法

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論文URL	:	https://doi.org/10.1063/1.1649721
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登録番号 : A20030607
抄録集掲載番号 : 330069
論文投稿番号 : 21488

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Exit interaction effect on nascent product state distribution of O(D)+NONO+NO

O(D)+NONO+NO反応の生成物状態分布における出口相互作用効果

Exit interaction effect on nascent product state distribution of O( $^{1}$ D)+N $_{2}$ ONO+NO

O( $^{1}$ D)+N $_{2}$ ONO+NO反応の生成物状態分布における出口相互作用効果