Analysis of internal transport barrier heat diffusivity from heat pulse propagation created by abrupt variation of diffusivity in JT-60U reverse shear plasmas

拡散係数の急激変動が誘起する熱パルス伝搬に基づくJT-60U負磁気シアプラズマ中の内部輸送障壁熱拡散係数の解析

Neudatchin, S. V.; 滝塚 知典; 白井 浩; 藤田 隆明; 諫山 明彦; 小出 芳彦; 鎌田 裕

Neudatchin, S. V.; Takizuka, Tomonori; Shirai, Hiroshi; Fujita, Takaaki; Isayama, Akihiko; Koide, Yoshihiko; Kamada, Yutaka

JT-60U中の負磁気シアプラズマにおいて、熱パルス伝搬の新しい発生源を発見した。熱拡散係数の急激な変動(事象)が熱パルス伝搬を引き起こす。この事象により急激な電子温度上昇(~20keV/s)が局所的(~4cm)に発生すると、その後時間が進むに従って、上昇した温度の変動が内部輸送障壁領域をゆっくりと拡散的に拡がっていく。この熱パルス伝搬を解析的・数値的に研究した。約8cm幅の領域において、電子の熱拡散係数は、約0.1m/sと小さくなっていることがわかった。この領域は磁気シアが正になっているところまで含んでいる。イオンの熱パルス伝搬も解析し、イオン熱拡散係数も電子と同様に小さくなっていることを示した。さらに、内部輸送障壁領域中には電子もイオンもともに熱ピンチは存在しないことを明らかにした。

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