Transformations in the intermediate-range structure of SiO glass under high pressure and temperature

高圧高温下におけるSiOガラスの中距離構造の変化

稲村 泰弘*; 片山 芳則; 内海 渉; 舟越 賢一*

Inamura, Yasuhiro*; Katayama, Yoshinori; Utsumi, Wataru; Funakoshi, Kenichi*

SiOガラスのX線構造因子の温度依存性を19.2GPaまでの複数の圧力で測定した。First Sharp Diffraction Peakの位置は、ある特定の圧力温度領域で、温度の上昇とともに高い運動量移動へと動いた。これは中距離構造がより密なものへと熱的に緩和されたことを示す。約7GPaで、温度により誘起されるシフトは飽和し、結晶化温度が劇的に高くなった。これらの結果は、SiOガラスに比較的安定な高圧構造が存在することを支持する。急激な変化は観測されなかった。

The temperature dependence of the X-ray structure factor for SiO glass was measured at several pressures up to 19.2 GPa. The position of the first sharp diffraction peak moved to a higher momentum transfer as the temperature increased in a specific pressure-temperature range. The intermediate range structure was thermally relaxed to a denser one. Around 7 GPa, the temperature-induced shift saturated and the crystallization temperature drastically increased. These results support the existence of a relatively stable high-pressure form of SiO glass. A sudden transformation was not observed.