五十嵐 慎一*; 原口 雅晴*; 相原 純 
; 齋藤 健*; 山口 憲司; 山本 博之; 北條 喜一
Igarashi, Shinichi*; Haraguchi, Masaharu*; Aihara, Jun; Saito, Takeru*; Yamaguchi, Kenji; Yamamoto, Hiroyuki; Hojo, Kiichi
固相反応に伴う鉄シリサイドの形成と相変化を、透過電子顕微鏡を用いた平面観察により検討した。実験では、超高真空中にて室温でFeをSi(100)基板上に蒸着させ、その後、試料を電子顕微鏡内にて673-1073Kの温度範囲で段階的に昇温した。673Kでの加熱により、まず多結晶質のFeSi細粒が観察された。さらに973Kへと昇温するに伴い、細粒同士が合体を始め数100nmサイズの多結晶
-FeSi
が形成されることがわかった。こうした相変化は同時に行った電子エネルギー損失スペクトルの測定によっても確認された。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 53 |
号 |
: | 3 |
ページ数 |
: | p.223 - 228 |
発行年月 |
: | 2004/08 |
キーワード |
: | シリサイド系半導体; ベータ鉄シリサイド; 透過電子顕微鏡; 電子エネルギー損失分光; 固相反応; 薄膜成長; 相変化; 相互拡散 |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：24.19 分野：Microscopy |
Altmetrics |
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