Expansion induced by ion bombardment in crystals of LiF and NaF

LifおよびNaF結晶のイオン照射による膨張

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LiFおよびNaF軍結晶を、2MVバンデグラフ加速器からの0.7~1.8MeVの陽子、重陽子、陽子、N-およびAr-イオンで照射し、生じた線膨張を光の干渉を用いて測定した。照射量は10 $^{1}$ $^{6}$ ions/cm $^{2}$ 程度までである。各イオンの照射量をdpaに換算し、その関数として線膨張をplotすると、用いた照射イオン、結晶の種類に亘って適用する一つの成長曲線が得られた。このことは、現在のdpaの範囲での線膨張が主にイオン照射によるFrenkel欠陥の生成によるものであること、LiFとNaFがその欠陥生成においてよく似た結晶であること示している。従来のLiFにおける熱中性子照射効果と比較すると、イオン照射による方が概して大きい。この違いは両者における照射のモードの差に起因すると考えられる。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Journal of the Physical Society of Japan
巻	:	38
号	:	3
ページ数	:	P. 902
発行年月	:	1975/03
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キーワード	:	LiF; NaF; イオン照射; 中性子照射; 線膨張; 光干渉法

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登録番号 : A19744440
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 4153

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