流動不純ヘリウム中におけるHastelloy Xの高温腐食

High temperature oxydation of hastelloy X in high velocity, impurified helium

Yamamoto, Katsumune; not registered; not registered

JMTRの炉内高温ヘリウムガスループ(OGL-1)の炉内管材料として使用されるHastelloy Xについて、1000 $^{circ}$ C付近における耐酸化性試験を行なった。炉内管内では高速でヘリウムガスが流れるため、特に流動ヘリウム中での酸化挙動を調べた。この結果、流速が大きい場合には、酸化皮膜の最外層の酸化物粒子が吹きとばされたり、降温時に酸化皮膜が剥離しやすくなるという現象が観察された。また高流速ヘリウム中では試片の端部が激しく酸化された。酸化皮膜は合金素地と酸化皮膜との境界部、その上にCr $_{2}$ O $_{3}$ から成る内層、およびCrとMnのスピネル酸化物を主成分とする外層から構成されていることが判った。また、酸化侵入深さは900 $^{circ}$ Cでは三乗則に、1000 $^{circ}$ Cでは自乗則に従がって増加した。これらの速度則の違いは酸素原子の合金中の拡散形態が粒界拡散と体積拡散のいづれが支配的であるかによると考えられる。

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使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	日本原子力学会誌
巻	:	17
号	:	11
ページ数	:	p.609 - 616
発行年月	:	1975/11
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	High Temperature; Oxydation; Hastelloy X; High Velocity Helium; Oxide Film; Weight Gain; Penetration Depth; Rate Law; Diffusion

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.3327/jaesj.17.609
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登録番号 : A19755061
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 4355

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