Use of a hollow cathode in a duoPIGatron hydrogen ion source

ホローカソードのデュオピガトロン型水素イオン源への応用

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水素ガス中でのホローカソード放電実験をした。内径1cm,長さ2cmのBa含浸型Wカソード又は、酸化物塗布Niカソードをホローカソードの電子エミッターとして使用した。ホローカソードを平板陽極と対向させて放電させたところ、1Torr・l/s以上のガス流量で、放電維持電圧は40~60V,放電電流は120A(電源容量により制限された)までであった。このホローカソードを10cmデュオピガトロン型水素イオン源のカソードとして使用した場合には、ガス流量とソース磁場電流に依存するが、80~120Vの放電電圧となった。このイオン源からビーム引出しを行ない、25keVの水素イオンビームが3A得られた。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Japanese Journal of Applied Physics
巻	:	19
号	:	9
ページ数	:	p.1703 - 1710
発行年月	:	1980/00
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	ホローカソード; 水素ガス; デュオピガトロン; Ba含浸型カソード; 酸化物Niカソード

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1143/JJAP.19.1703
研究データの公開先DOI	:
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広報プレスリリース	:
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：48.16 分野：Physics, Applied
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登録番号 : A19799219
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 5793

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