Ionization of gases by a pulsed electron beam as studied by the self-focusing, III; He-,Ar,and O $_{2}$ -mixtures

パルス電子線の自己集束性と気体イオン化過程,III; He-,Ar-およびO $_{2}$ -混合気体

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大強度パルス電子線による気体イオン化過程の研究の一環として、標記混合気体のイオン化過程を、パルス電子線の自己収束性の観測結果から検討した。本研究シリーズのPartIおよびIIの結論に基づいて解析した結果、イオン化過程に及ぼす添加分子気体の効果は、添加気体のイオン化ポテンシャル(IP)、IP付近でのイオン化断面積の立ち上り勾配、および二次電子に対する減速効果で説明できることを明らかにした。

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発表言語	:	English
掲載資料名	:	Journal of Chemical Physics
巻	:	75
号	:	8
ページ数	:	p.3876 - 3881
発行年月	:	1981/00
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	Gas Ionization; Pulsed Electron Beam; He-gas Mixtures; Ar-gas Mixtures; Mean Ionization Time

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1063/1.442544
研究データの公開先DOI	:	本成果にかかわる研究データのリンクです。
使用施設	:
広報プレスリリース	:
論文解説 (JAEA R&D Navigator)	:
受委託・共同研究相手機関	:

Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：7.03 分野：Chemistry, Physical
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登録番号 : A19800521
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 6152

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Ionization of gases by a pulsed electron beam as studied by the self-focusing, III; He-,Ar,and O-mixtures

パルス電子線の自己集束性と気体イオン化過程,III; He-,Ar-およびO-混合気体

Ionization of gases by a pulsed electron beam as studied by the self-focusing, III; He-,Ar,and O $_{2}$ -mixtures

パルス電子線の自己集束性と気体イオン化過程,III; He-,Ar-およびO $_{2}$ -混合気体