Rate of production of water vapour in low-power,high-repetition-rate discharge cleaning

低いパワーで、繰り返しの早い放電洗浄における水の生成割合

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低いパワーで繰り返しの早い放電洗浄(テーラ型放電洗浄:TDC)において、ガス圧Pf,プラズマ電流Ip,繰り返し周期I/Tに対する水P $_{H}$ $_{2}$ $_{O}$ の生成割合について実験した。P $_{H}$ $_{2}$ $_{O}$ はPfの増大に伴い増えるが増え方はP $_{H}$ $_{2}$ $_{O}$ Pf $^{0}$ $^{.}$ $^{6}$ で指数は1とならない。これはガス圧の上昇に伴い、電子温度Teが低下、H $_{2}$ の解離が減少する為である。Ipについては5kAIp10kAが最適であり、これはTe=5~10eVになる。Teがこれ以上になると生成されたH $_{2}$ Oの解離が進むのでP $_{H}$ $_{2}$ $_{O}$ は減少する。I/TについてはI/Tが増大すればP $_{H}$ $_{2}$ $_{O}$ も増大する。更にP $_{H}$ $_{2}$ $_{O}$ の時間変化については、P $_{H}$ $_{2}$ $_{O}$ はTDCを開始すると直ちに、ベース圧より20倍程度増大し、その後徐々に減少する。それはP $_{H}$ $_{2}$ $_{O}$ t $^{-}$ $^{0}$ $^{.}$ $^{9}$ となる。以上の実験事実を水の粒子バランス方程式を使用して、論議・考察した。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Japanese Journal of Applied Physics
巻	:	25
号	:	2
ページ数	:	p.253 - 257
発行年月	:	1986/00
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	トカマク; JFT-2; TDC; ガス圧依存性; プラズマ電流依存性; 繰り返し周期依存性; P $_{H}$ $_{2}$ $_{O}$ の時間変化

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1143/JJAP.25.253
研究データの公開先DOI	:
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広報プレスリリース	:
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：54.42 分野：Physics, Applied
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登録番号 : A19855436
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 7661

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