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On the chemical sputtering of oxygen-exposed molybdenum

酸素雰囲気におけるモリブデンの化学スパッタリング

西堂 雅博; H.Gnaser*; W.O.Hofer*

not registered; H.Gnaser*; W.O.Hofer*

酸素雰囲気におけるモリブデンのスパッタリング特性について、スパッタリングによって放出される中性粒子および二次イオンの質量分析を行なうことにより調べた。照射イオンとして、8keVAr$$^{+}$$イオンを使用し、照射は、2つの異なる温度、25$$^{circ}$$Cと485$$^{circ}$$Cで行なった。高い温度で起こるスパッタリング収率の特徴的な増加は、ビーム誘起脱離によるMoO$$_{2}$$及び衝突カスケードによるMoOそれぞれの放出量の増加に起因することが判明した。また、同時に、酸素の取り込み量について測定したが、ビーム照射と熱拡散に起因して表面附近に取り込まれる気相系からの酸素の量は、25$$^{circ}$$Cの場合に比べて、高い温度では、増加することが判明した。

no abstracts in English

発表言語

 :

English

掲載資料名

 :

Applied Physics A

巻

 :

40

号

 :

ページ数

 :

p.197 - 202

発行年月

 :

1986/00

発表会議名

 :

開催年月

 :

開催都市

 :

開催国

 :

キーワード

 :

Molybdenum; Chemical Sputtering; Mass Analysis; Oxygen Exposure; Oxygen Incorporation; Sputtered Neutral

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

https://doi.org/10.1007/BF00616594

研究データの公開先DOI

 :

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使用施設

 :

広報プレスリリース

 :

論文解説
(JAEA R&D Navigator)

 :

受委託・共同研究相手機関

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Access

 :

- Accesses

InCites™

 :

パーセンタイル：72.24

分野：Materials Science, Multidisciplinary

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