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Very small angle neutron scattering from amorphous Fe$$_{7}$$$$_{8}$$B$$_{1}$$$$_{2}$$Si$$_{1}$$$$_{0}$$

非晶質Fe$$_{7}$$$$_{8}$$B$$_{1}$$$$_{2}$$Si$$_{1}$$$$_{0}$$LMの中性子極小角散乱

富満 広; 高橋 敏男*; 菊田 惺志*; 土井 健治

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JRR-2に設置した極小角中性子散乱装置を用いて金属ガラスFe$$_{7}$$$$_{8}$$B$$_{1}$$$$_{2}$$Si$$_{1}$$$$_{0}$$についての実験を行なった結果を報告する。試料は厚さ30$$mu$$mの箔である。常温で磁性を持っている。中性子極小角散乱の測定結果より次のことが明らかとなった。i)箔よりサンプルした試料は、サンプルした場所、また箔のロットの如何にかかわらず、半値巾0.2~0.3秒程度の、ガウス型プロフイルを持つ小角散乱を示す。これは、箔の表面に平行な方向に1.2~1.6$$times$$10$$^{6}$$A程度の慣性半径を持つ構造不均一性の存在を示す。ii)箔表面に平行にD80Gaussの磁場を約60時間印加することにより、慣性半径は磁場の方向に約15%増加する。

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パーセンタイル:59.79

分野:Materials Science, Ceramics

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