• help
  • PC | SP
  • JP | EN
          
検索対象：     
報告書番号：
※ 半角英数字
 年 ～ 
 年
全てクリア
前の画面に戻る

Observation of defect clusters in masked thin foil CU by He$$^{+}$$ ion irradiation

ヘリウムイオン照射した銅の重ね合せ試料中の欠陥集合体

石田 巌*; 義家 敏正*; 桐谷 道雄*; 佐々木 茂美; 岩瀬 彰宏; 岩田 忠夫

not registered; not registered; not registered; not registered; not registered; not registered

純度99.999%の銅を電解研磨によりクサビ形薄膜試料とし、2枚の試料を交差して重ね合わせ、室温で、2MVV.d.G加速器を用いて500keVHe$$^{+}$$イオンを、照射強度2.8$$times$$10$$^{1}$$$$^{2}$$ions/cm$$^{2}$$・S、照射量8.3$$times$$10$$^{1}$$$$^{4}$$ions/cm$$^{2}$$・Sまで照射し、導入された点欠陥集合体を電子顕微鏡JEM-200CXを用いて観察した。その結果、マスクのない試料部分およびマスクの薄い試料部分では積層欠陥四面体が主に観察され、マスクの厚い試料部分では転移ループのみが観察された。これは、イオン入射面近傍とイオンの飛程の近傍とでは、欠陥集合体形成の機構が異なっていることを示している。

no abstracts in English

発表言語

 :

English

掲載資料名

 :

Proc.XIth Int.Cong.on Electron Microscopy

巻

 :

号

 :

ページ数

 :

p.1281 - 1282

発行年月

 :

1986/00

発表会議名

 :

開催年月

 :

開催都市

 :

開催国

 :

キーワード

 :

Copper; Radiation Damage; He-ions; 500keV; Room Temperature; Stacking fault Tetrahedra; Dislocation Loops

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

研究データの公開先DOI

 :

本成果にかかわる研究データのリンクです。

使用施設

 :

広報プレスリリース

 :

論文解説
(JAEA R&D Navigator)

 :

受委託・共同研究相手機関

 :

Access

 :

- Accesses

InCites™

 :

Altmetrics

 :

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.

前の画面に戻る