Rippled pattern of image in HVEM irradiated nickel

電子線照射したニッケル中の変調構造

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照射によって金属中に導入される点欠陥集合体の形成のメカニズムを知ることを目的として、ニッケルの電子線照射を超高圧電子顕微鏡を用いて行なった。その結果、420kの温度での照射で、これまでに見出されている格子間原子型転位ループおよびその近傍に生ずる積層欠陥四面体とは独立に、新たな変調構造が見出された。この変調構造は観察に用いた反射ベクトル(〔200〕反射)にほぼ直角でおよそ50ナノメートル間隔の縞模様から成っている。簡単な考察から、この縞模様は原子置換衝突によって電子入射面近傍に生じた原子空孔過剰層に数十ナノメートルの間隔で形成された小さな原子空孔型転位ループに由来することが推論される。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Japanese Journal of Applied Physics
巻	:	25
号	:	12
ページ数	:	p.L964 - L966
発行年月	:	1986/12
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	Radiation Damage; Nickel; 1 MV Electron Microscope; Rippled; Pattern; Vacancy Cluster; Replacement Sequence Collision

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1143/JJAP.25.L964
研究データの公開先DOI	:
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広報プレスリリース	:
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：0.01 分野：Physics, Applied
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登録番号 : A19866344
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 7995

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