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グロー放電を利用した炭素膜コーティング

Carbon coating by glow discharge

阿部 哲也; 廣木 成治; 村上 義夫; 加藤 由尚*

Abe, Tetsuya; Hiroki, Seiji; Murakami, Yoshio; Kato, Yoshinao*

1目的・概要 核融合第一壁への低Z材料コーティング技術であるカーボニゼーションの基礎実験を行った。原料ガス(メタン,アセチレン)を流しながらグロー放電させて膜を堆積し、その速度を調べ、同時に膜の除去方法についても放電ガスを変えて除去速度を調べた。 2結果 Ptotal=0.5Pa、i=20$$mu$$A/cm$$^{2}$$で(CH$$_{4}$$)≒0.1$$mu$$m/hr、(C$$_{2}$$H$$_{2}$$)≒0.25$$mu$$m/hrであった。H$$_{2}$$希釈したガスでは堆積速度は原料ガス分圧(ガス供給速度)に比例し、また放電電流密度に比例することが判明した。炭素膜のエッチング速度は放電ガスによって異なり O$$_{2}$$:CO$$_{2}$$:H$$_{2}$$=26:10:1となった。O$$_{2}$$ではその速度は0.1~0.2$$mu$$m/hrであった。 堆積膜は干渉色を示した。CH$$_{4}$$膜は電気絶縁性であり、C$$_{2}$$H$$_{2}$$膜は電気伝導性であった。

no abstracts in English

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