On the influence of incident energy of proton on chemical erosion of graphite

黒鉛の化学損耗率に与える水素イオン入射エネルギーの影響について

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先の我々の実験により、黒鉛の化学スパッタリング収率は1keV水素イオンに対して最大値を取り、原子状水素は水素イオンの化学スパッタリング収率を位減化しない、ということが明らかにされた。本論文では、上記の実験事実を説明するモデルを提案した。そのモデルでは、入射イオンエネルギーが与える材料の照射損傷と、入射イオンの反射が考慮されており、水素イオン電流密度に依らずに、収率が1keV付近で最大となることが説明できる。一方、原子状水素による黒鉛の損耗率が評価され、エネルギー水素イオンの同時照射の場合、その値は0.03以上と見積ることが出来る。その結果、水素イオンによる表面損傷が原子状水素の損耗率を大きくしていることを示している。ここで得られた2つの結果は、入射エネルギーイオンによる表面損傷が黒鉛での水素によるメタン生成に大きな影響を与えていることを示している。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Journal of Nuclear Materials
巻	:	116
号	:
ページ数	:	p.200 - 205
発行年月	:	1983/00
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	Chemical; Sputtering; Hydrogen; Graphite; Incident; Energy; Radiation; Damage; Reflectur

特許データ	:
PDF	:

論文URL	:	https://doi.org/10.1016/0022-3115(83)90103-4
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広報プレスリリース	:
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Access	:	- Accesses
Web of Science® Times Cited Count	:	被引用回数：評価・統計等のため最新の被引用回数を確認したい場合は、直接Web of Science®をご確認ください。 http://www.webofknowledge.com/wos
InCites™	:	パーセンタイル：92.84 分野：Materials Science, Multidisciplinary
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登録番号 : A19822173
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 6761

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