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薄膜材料の物性や化学特性を研究する際に問題になることは、測定物の膜厚がモニターとどのくらい違うかということである。この論文においては、従来より示されている(測定物を直接測定する方法)膜厚測定法を改良し、従来困難であるとされていた数nm以下の膜厚を正確に測定できることを示し、その膜の密度を膜厚をもとに計算する方法を示した。すなわち、測定すべき膜の両側にPt-Pd又はW金属を真空蒸着し、一方向に折り曲げ、その折り曲げられた所を透過型電子顕微鏡により観察する。次に、電顕像のコントラストの違いを利用して膜厚を測定する。この方法で、約3.5nmのボロン薄膜の厚さが測定できた。さらにこの方法を利用して、スパッタリング法によって作られたボロン膜の密度を求めることができた。(P=2.40g/cm
)その結果、薄膜の密度は膜厚に依存しないことが示された。
no abstracts in English
使用言語 |
: | Japanese |
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掲載資料名 |
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巻 |
: | 27 |
号 |
: | 7 |
ページ数 |
: | p.589 - 595 |
発行年月 |
: | 1984/00 |
キーワード |
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論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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Altmetrics |
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