not registered; Katano, Y.; Shiraishi, K.
照射下に於けるミクロ組織の変化に対する外力の効果を調べるために、超高圧電子顕微鏡を用いて電子線照射下の純ニッケル中のミクロ組織変化を試料引張ステージを用いて、その場観察してみた。照射温度は723K,電子線束は1
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e/msとした。外力が加わっている試料では、照射により生じたフランク・ループが、10nm程度にまで成長するとUnfaultすることが観察された。外力を加えていない試料中に発生したフランク・ループも外力が加えられるとUnfaultした。Unfaultを生じさせ得る外力の大きさは、照射温度723Kのとき、
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Unfault方向の剪断応力で、3.7MPa以上であることがわかった。Unfaultして生じた完全転位ループの成長速度は、フランク・ループのそれより3倍程度と大きかった。外力の加わっている試料中に於いては、これらの完全転位ループは、その大きさがある大きさを越えるまで成長すると、すべり運動をして拡がった。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 21 |
号 |
: | 9 |
ページ数 |
: | p.671 - 677 |
発行年月 |
: | 1984/00 |
キーワード |
: | ミクロ組織変化; 外部応力; 電子線照射; ニッケル; 超高圧電子顕微鏡; フランク・ループ; Unfault; 完全転位ループ; 照射下クリープ; 応力下スウェリング |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：79.2 分野：Nuclear Science & Technology |
Altmetrics |
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