• help
  • PC | SP
  • JP | EN
          
検索対象：     
報告書番号：
※ 半角英数字
 年 ～ 
 年
全てクリア
前の画面に戻る

On the production of the KrF$$^{-}$$ and XeF$$^{-}$$ ion beams for the tandem electrostatic accelerators

タンデム型静電加速器の為のKrF$$^{-}$$とXeF$$^{-}$$イオンビームの生成について

峰原 英介; 阿部 信市; 吉田 忠; 佐藤 豊; 神田 将; 小林 千明; 花島 進

not registered; Abe, Shinichi; not registered; not registered; not registered; not registered; Hanashima, Susumu

ヘリウムより重い希ガス元素の負イオンは不安定でこれらの電子親和力は負である。希ガス元素は非常に不活性なので他の物質と反応して正の親和力を持つ化合物を作ることはできないと考えられてきた。我々の仕事以前には希ガス元素とその化合物の負イオンビームを得る試みは行われていない。前回我々は横引き出しペニングイオン源で約1nAのKrF$$^{-}$$とXeF$$^{-}$$イオンが生成し、引き出されている事をKrとXeの質量分布を測定する事によって確認した。故に希ガス化合物負イオンを用いてタンデム加速器でKr、Xeを加熱する大きな可能性がある。今回、原研タンデム加速器の入射器に設置されたペニングイオン源と特別設計のガス系を用いてこれらの負イオン電流を大巾に増加させる事ができた。KrF$$^{-}$$とXeF$$^{-}$$の典型的な電流強度は各々100nAと50nA、最大強度は各々320nA、150nAであった。原研タンデム加速器によるこれらの元素の加速が現在進行中である。

no abstracts in English

使用言語

 :

English

掲載資料名

 :

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B

巻

 :

5

号

 :

ページ数

 :

p.217 - 220

発行年月

 :

1984/00

発表会議名

 :

開催年月

 :

開催都市

 :

開催国

 :

キーワード

 :

Tandem electrostatic accelerator; Penning ion source; KrF$$^{-}$$; XeF$$^{-}$$; Electron affinity; Evaporation and feed system

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

https://doi.org/10.1016/0168-583X(84)90513-5

研究データの公開先DOI

 :

使用施設

 :

広報プレスリリース

 :

論文解説記事
(成果普及情報誌)

 :

受委託・共同研究相手機関

 :

Access

 :

- Accesses

InCites™

 :

パーセンタイル：55.11

分野：Instruments & Instrumentation

Altmetrics

 :

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.

前の画面に戻る