Chemical states and thermal stability of hydrogen-implanted Ti and V studied by X-ray photoelectron spectroscopy

X線光電子分光法により測定した水素注入チタン及びバナジウムの化学状態と熱的安定性

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8keV水素イオンを照射したチタン及びバナジウムの表面化学状態をX線光電子分光法により測定した。水素イオン照射に伴い、チタン及びバナジウムの2P3/2ピークは、金属状態に比べ0.3eVケミカルシフトし、その結合へエネルギーは熱合成水素化物の場合と一致した。また、水素イオン注入チタン及びバナジウムの価電子帯領域には、フェルミレベルからそれぞれ3.5eV、5.0eVの位置に、Metal3d-HIS結合性軌道によるピークが生じる。このピーク強度は、550 $^{circ}$ C、150 $^{circ}$ Cまでの加熱により増加する。これは飛程付近にトラップされた水素が、加熱に伴い表層部へ移動したためと考えられる。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Journal of Nuclear Materials
巻	:	132
号	:
ページ数	:	p.173 - 180
発行年月	:	1985/00
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	X-ray photoelectron spectroscopy; Titanium; Vanadium; Hydrogen-ion implantation; Thermal stability

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1016/0022-3115(85)90412-X
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広報プレスリリース	:
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：54.56 分野：Materials Science, Multidisciplinary
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登録番号 : A19844228
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 7452

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