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高周波による表面清浄化試験

Surface cleaning test with RF

廣木 成治 ; 竹森 信*; 阿部 哲也 ; 小原 建治郎; 中村 和幸 ; 村上 義夫

Hiroki, S.; not registered; not registered; not registered; not registered; Murakami, Yoshio

真空容器内の表面清浄化促進のため、無放電状態でマイクロ波(2.45GHz)を入射した。実験は、真空試験装置(JVX-I)を使って行った。マイクロ波導入窓には、コバールガラス製ビューイングポートを用い、マイクロ波入射の有無による圧力変化の比較、放出ガス成分、マイクロ波入射中の大気側器壁温度等について調べた。排気を始めてから24時間経過した後の到達圧力は、マイクロ波(最大1.5KW)を約7時間入射することにより、1桁程度向上している。この時、真空容器の大気側壁温は、最大120$$^{circ}$$Cに達している。また、マイクロ波入射時の突発的な圧力上昇に対応してH$$_{2}$$はじめCO,CO$$_{2}$$等の分圧は同様に増加するが、H$$_{2}$$O分圧は逆に減少している。マイクロ波入射による効果として、壁のマイクロ波電力吸収による加熱脱ガス、吸着ガス分子とマイクロ波電磁界との相互作用による脱離、解離、電離等が考えられる。

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