ハステロイ-XRのヘリウム中酸化における耐酸化性と酸化膜の密着性改善のためのSi含有量の最適化

Optimization of Si Content in Hastelloy-XR for Oxidation Resistance and Oxide Film Adherence During Oxidation in VHTR Helium

1000 $^{circ}$ Cの高温ガス炉(VHTR)冷却材を近似したヘリウム中でSi含有量の異なる数種のハステロイ-XR合金(ハステロイ-Xを改良した合金)について恒温下、熱サイクル下の酸化挙動を調べた。本研究は耐酸化性と被膜の密着性の観点から最適Si含有量を決定することを目的としている。Siの添加は1%までSi含有量の増加にともなって酸化速度が遅くなる。一方被膜の密着性は0.2~0.4%のSi添加がもっともよかった。これらの二つの傾向は被膜と合金の界面に形成されるSiO $_{2}$ の形態によって説明することができる。

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使用言語	:	Japanese
報告書番号	:	JAERI-M 8835
ページ数	:	14 Pages
発行年月	:	1980/04
特許データ	:
PDF	:	JAERI-M-8835.pdf:1.8MB
論文URL	:	https://doi.org/10.11484/jaeri-m-8835
キーワード	:	ハステロイ-X; ハステロイ-XR; VHTR; 酸化速度; 耐酸化性; 酸化物のはく離; ヘリウム; 恒温酸化; 熱サイクル酸化
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Access	:	- Accesses
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登録番号 : M008835
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