Impurity Screening of Scrape-Off Plasma in a Tokamak

トカマクにおけるスクレプ・オフ層プラズマの不純物遮蔽

岸本 浩; 谷 啓二; 中村 博雄

not registered; not registered; Nakamura, H.

壁面から生じる不純物挙動の簡単化したモデルによりトカマクにおけるスクレプオフ層プラズマの不純物遮蔽効果を調べた。高Zないしは中間Z壁の系では、スパッタされた不純物が効果的にスクレプオフ層で遮蔽されるが、低Z壁では大部分の不純物が直接主プラズマ中に進入することが示された。一方、スクレプオフ層で遮蔽された不純物は、スクレプオフ層中で再循環(リサイクリング)するが、再循環過程での不純物増倍の程度は、壁材のZ値とともに、さらにまたスクレプオフ層プラズマの温度とともに大きくなる。プラズマ-壁相互作用の安定度は、これら再循環不純物の増倍係数によって定まることが明らかとなった。

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