Vertical Position Control of the Elongated INTOR Plasma

INTOR非円形プラズマの垂直位置制御

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INTOR非円形プラズマの垂直位置安定化に要するシェル構成および制御について記述する。安定化において考慮される回路要素は、シェル構成、遮蔽体および制御コイルであり、実際の炉構成に比べて簡単化されている。速い不安定の抑制に対して十分なシェル効果を発揮する矩形コイル状シェルの新しい型が提案されている。それは、一連のシステマティックなシェル構成の研究から生まれた。このシェル構成は、プラズマに近接して配置されるが、トリチウム増殖率への影響は無視できる程度まで軽減できることが判った。モデル化された制御系は、外乱磁界、Bd(=B $_{infty}$ ・[1-exp(-t/ $_{d}$ )](B $_{infty}$ :t=での磁界、 $_{d}$ :時定数)の下で研究されている。曲率指数(n-index)は、ポンプリミタ用に-1.0、ダイバータ用に-1.3、の2種類が選択されている。結果として、上記の制御系および条件の下では、良い特性が得られることが判った。また、その良好な制御条件下では、上記の2種類の曲率指数の相違は、制御電源容量において約2倍の相違となって現われることが判った。

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使用言語	:	English
報告書番号	:	JAERI-M 82-213
ページ数	:	38 Pages
発行年月	:	1983/01
特許データ	:
PDF	:	JAERI-M-82-213.pdf:0.81MB
論文URL	:	https://doi.org/10.11484/jaeri-m-82-213
キーワード	:	Plasma Control; Feedback Control; INTOR; Plasma Position; Shell Effect; Controll Power
使用施設	:
広報プレスリリース	:
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他機関報告書番号	:

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登録番号 : M19820213
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