2MVバンデグラフ加速器用小型イオン照射装置

Miniaturized Target Chamber for 2MV Van de Graaff Accelerator

鈴木 建次; 片野 吉男; 有賀 武夫; 白石 健介

not registered; Katano, Y.; Aruga, T.; Shiraishi, K.

エネルギーの高いイオンで照射した材料における照射損傷領域の組織観察法は材料の照射損傷を研究する上で有用な手段である。組織変化に及ぼす照射量の影響を解明するために、均質かつ時間的に安定なプロフィルを有するイオンビームが必要となる。2MVバンデグラフ加速器のセンターダクトにおけるイオンビームは上述の条件を比較的容易に満し得るけれども、装置の設置に対する許容空間は少ない。このため、大型装置と同様に排気、試料の加熱およびイオン電流密度の計測などができる小型イオン照射装置を製作し、得られる照射条件の検討を行った。その結果、本照射装置は材料の照射試験に充分使用できることがわかった。

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