Yamaki, Tetsuya; Asano, Masaharu; Yoshida, Masaru
DMFC用の電解質膜にかかわる最も重要な研究課題として、メタノールクロスオーバーを抑制できる膜の開発がある。筆者らは、独自に開発した放射線照射プロセスを利用して、この課題をクリアする高性能な電解質膜の作製に成功した。高温下の
線照射で架橋構造を付与したポリテトラフルオロエチレン(PTFE)膜に放射線グラフト重合を応用することにより、スルホン酸基の量を市販膜ナフィオンの3倍にまで高めた新しいフッ素系高分子電解質膜を作製し、そのプロトン伝導性が最大で2倍に達することを明らかにした。この膜のメタノール透過試験を行ったところ、30体積%という高濃度の水溶液を用いても透過係数がナフィオンの約4分の1にまで大幅に抑制されていることがわかった。PTFE主鎖への架橋導入がメタノールクロスオーバーを抑制するのに不可欠であることを示すことができた。
no abstracts in English
使用言語 |
: | Japanese |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 10 |
号 |
: | 6 |
ページ数 |
: | p.5 - 11 |
発行年月 |
: | 2005/06 |
キーワード |
: | ポリテトラフルオロエチレン(PTFE); 架橋; 放射線グラフト重合; 高分子電解質膜; イオン交換容量; プロトン伝導; メタノール透過; 直接メタノール型燃料電池(DMFC); モバイル用燃料電池 |
論文URL |
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使用施設 |
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論文解説記事 |
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