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側面LD励起Yb:YAGレーザーの開発

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三浦 昭彦 ; 萩原 正義 ; 上原 典文; 宮本 泰明 ; 鈴木 美寿; 須藤 収; 船坂 英之

Miura, Akihiko; not registered; not registered; not registered; not registered; not registered; Funasaka, Hideyuki

本報告は、レーザー除染や消滅処理を目的とした単色$$gamma$$線の発生等に応用が期待されるLD励起Yb:YAGレーザーの開発を行った結果を示したものである。なお、Yb:YAG結晶に関して、側面励起方式でレーザー発振に成功したのは本報告が国内初であった。本研究で使用した側面励起方式では、結晶側面からの励起光を多重反射させる際に、通常は反射板を用いるところを散乱板を用いた。また、通常励起光を集光するために複雑なレンズ系を組み合わせるのが一般的であるが、マイクロシリンドリカルレンズを励起光源の直近におくだけの単純構造とした。この結果、240W(40W$$times$$6個)で励起したときに、Yb:YAGレーザー出力150mW(発振波長1048nm)が得られた。また、Yb:YAGレーザーのスペクトル観察から光強度のピークは1048nmにあることが分かった。この際、LDの励起光のスペクトルも同時に分光器に入射したため、930nm付近に励起光のスペクトルのピークが見られた。ビームプロファイラーの測定から、ビームプロファイルにおけるガウス分布とのフィッティング率は、鉛直方向およびこれに直交する方向(水平方向)でいずれも95%以上の高いフィッティング率となっている。すなわちTEM00モード成分が95%以上となっていることがわかった。

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